山东半导体技术 最新收录

肖特基二极管多层金属化系统的研究杨碧梧

半导体器件分析CAD系统PC—SEDAN李惠军 刘运臣

国内SMT／SMC／SMD的发展现状翁寿松

新型薄膜材料—AIN张佐兰 张言一

肖特基二极管的性能和用途概述杨碧梧

简易基准稳压二极管温度系数测试方法陈守迎

LBO晶体加工过程中开裂等问题的讨论李云林

DO—35型微型玻封二极管—（G）2CK55可靠性分析宋学民 王爱荣

在薄氧化层上淀积多晶硅的最佳条件周树山 陈江华

在低温炉中退火和高温RTA情况下双极晶体管的杂质扩散行为及0.5μ…潘荔伟 张文金

P—沟道多晶硅MOSFET的ON／OFF电流比取决于热载流子应力状态所升堂 齐保国

SHF波段的未来广播张秀海 张慧

采用不同低压化学汽相淀积压力生长的多晶硅薄膜晶体管特性贾惠蓉 张爱卿

新型双向触发二极管刘谦 范坤泰

高温3CG110 120HT型三极管设计报告白生亮

模塑料特性对集成电路封装成品率的影响杜素雅

肖特基二极管产品质量分析报告朱志光 杨萍

金属化层剥离工艺李惠军 龙莹山

发展动态庚寅

显示用低温多晶硅薄膜晶体管Grev.,DW 朱佩金

改进的超纯水系统用低溶解氧实现无天然氧化层的圆片处理谢嘉慧

按比例缩小BiCMOS电路的多晶硅发射极设计Foss.,JG 李嘉生

KTP晶体宏观缺陷的分析李云林

对半导体器件工艺筛选应力的探讨王树昆

晶体管电老化功率的研究兰怀迎

论半导体制造设备翁寿松

模块电源（DC—DC转换器）高立进 陈平

特大规模集成电路生产中湿法清洗工艺的粒子沉积与清除谢嘉慧

硅上薄SiO2层厚度的确定Reisi.,H 范元进

等离子腐蚀法现代监控技术的发展：I.用CF4／O2和CF4／H2腐蚀硅和二氧化…巴.,SW 刘红云

ULSI铜金属化的磷硅玻璃钝化杨萍

微电子工艺CAD系统PC—SUPREM—II李惠军

圆片规模GTO晶闸管的电路模拟王爱华 刘桂兰

《适用于高速彩色图像传感器的纵向a—si：H背对背肖特基二极管》王娟民 杨德顺

晶体管高阻集电区厚度的探讨王成森

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